2007-03-23 CMOSを超える何か 最近じゃぁ高速化・高集積化のために微細化が進んで、絶縁材にSiO2じゃ無くて、high-k材料って言われてる高誘電率な材料が使われてるのです。 「high-k材料を利用するのならSiプロセスである理由が無い」 っていう指摘には、ちょいとハッとさせられました。Siだと、SiO2で用意に絶縁体が作れてMOS構造を作れる、ってのもメリットでしたので。うーん。